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[기타] 삼성전자, 20나노 8기가비트 모바일 D램 양산 [24]




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추천 | 조회 2730 | 댓글수 24
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삼성전자 : 하아하아!! 좀더 오밀조밀한 나노로!! 하아하아...
14.12.23 09:23

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그건 로직...
14.12.23 10:15

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전력은 물이고, 소자와 회로는 물통과 배관이라고 비유해보시면 됩니다. 물통이 작아지고, 배관이 얇아지면(-->미세 공정화가 진행되면), 같은 물통 개수를 채운다면, 물이 더 적게 듭니다.(-->전력을 덜 먹습니다) 물통과 배관이 작아지니까 같은 넓이에 더 많은 물통을 놓을 수 있어서 비슷한 크기의 칩에서는 더 좋은 성능을 뽑아낼 수 있습니다. 또 전력을 적게 먹으니 열도 함께 덜 나서 더 높은 클럭으로 돌릴 수 있습니다. 제가 봐도 좀 헛점이 많은 비유이긴 한데, 대략 이런 경향 때문에 미세 공정이 도입되면 성능이 올라간다는 큰 그림 정도로만 이해해주시면 감사하겠습니다.
14.12.23 13:05

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삼성전자 : 하아하아!! 좀더 오밀조밀한 나노로!! 하아하아...
14.12.23 09:23

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변태도 나노급 | 14.12.23 10:29 | | |

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근데 이 나노 공정도 한계가 잇을거같은데요. 나노공정이 한계에 부딪히면 어떻게되려나요...?
14.12.23 09:28

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주재료인 실리콘에서 다른 걸로 바꾸고 3D 설계로 집적도를 높이겠죠 | 14.12.23 09:35 | | |

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공정 한계 때문에 10나노 밑으로는 내려가는게 엄청 어렵다더군요 전자가 지나다니는 통로가 전자보다 작아진다나 | 14.12.23 10:19 | | |

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전자크기가 몇인데 채널이 전자보다 작을 수 있나요;; | 14.12.23 10:59 | | |

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전자크기보다는 그 작은 크기를 만들어 낼 수 있는 광원이 없을거 같은데..;; | 14.12.23 11:02 | | |

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더블패터닝이나 쿼드패터닝 등 방법은 있습니다. 이미 패턴사이즈가 광원보다 작아진지는 오래 됐어요. 참고로 지금 쓰이고 있는 광원은 193nm입니다. | 14.12.23 11:14 | | |

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굉장히 궁금한것은.... 왜 공정이 극초소형화 될수록 성능이 빨리 뛰게 되는건가요? 솔직히 말해서 처리속도가 올라간다해도 그만큼 전력을 더 많이 먹어야 정상인데 말이죠. | 14.12.23 11:38 | | |

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전력은 물이고, 소자와 회로는 물통과 배관이라고 비유해보시면 됩니다. 물통이 작아지고, 배관이 얇아지면(-->미세 공정화가 진행되면), 같은 물통 개수를 채운다면, 물이 더 적게 듭니다.(-->전력을 덜 먹습니다) 물통과 배관이 작아지니까 같은 넓이에 더 많은 물통을 놓을 수 있어서 비슷한 크기의 칩에서는 더 좋은 성능을 뽑아낼 수 있습니다. 또 전력을 적게 먹으니 열도 함께 덜 나서 더 높은 클럭으로 돌릴 수 있습니다. 제가 봐도 좀 헛점이 많은 비유이긴 한데, 대략 이런 경향 때문에 미세 공정이 도입되면 성능이 올라간다는 큰 그림 정도로만 이해해주시면 감사하겠습니다. | 14.12.23 13:05 | | |

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소레니 // 아주 일반적인 내용으로 말씀드리겠습니다. 보통 공정이 작아진다는 이야기는 게이트가 작아진다는 이야기입니다. 게이트가 작아지면 소스에서 드레인까지의 거리가 짧아지게 됩니다. 동일한 물질이라면 저항은 거리에 비례하기 때문에 짧아진 거리로 인해 채널 내 저항이 감소하는 효과가 발생합니다. 그렇다면 얕은(좁은) 채널을 써도 전류의 흐름에는 문제가 없게 되고 게이트에 인가하는 전압을 낮출 수 있게 되는 부가적인 장점 역시 발생하게 됩니다. 그렇기 때문에 일반적으로 게이트가 작아지게 되면 전기적 성능 역시 향상된다고 합니다. | 14.12.23 15:28 | | |

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정교한 20나노 양산으로 가버렷!!
14.12.23 09:29

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20nm가 한계 맞구요. 그 이하도 가능한데 비효율적이라서 안합니다. 2차원 평면 상에서의 얘기구요. 이젠 램을 수직으로 쌓는 식으로(3차원 방식, CPU 공정하고 비슷하게 흘러감) 생산될 예정입니다.
14.12.23 09:30

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수직으로 쌓는거는 한계가 없나요? | 14.12.23 09:33 | | |

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당연히 한계가 있죠. 5차원 공간이 아닌 이상 공간상의 한계가 존재합니다. 20nm 공정 자체가 빛을 이용해서 소자를 깍는 방식인데, 20nm가 한계라고 하니깐 아마 그 이하로 내려간다 하더라도 분명히 한계점은 존재 할 것이고, 뭔가 획기적인 공법이 나오지 않는 이상은 무어의 법칙은 지속되지 않을 것 입니다. | 14.12.23 09:37 | | |

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다시한번 말하지만, 여기서 말하는 한계는 기술적 한계가 아니라 효율적인 측면에서의 한계입니다. 그 이하로 깎으면 성능이 떨어진다고 하네요. | 14.12.23 09:39 | | |

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나노 미세공정으로 갈수록 수명 과 안정성 문제는 대두될수 밖에 없지 이건 해결할수 없는 줄다리기 문제
14.12.23 09:33

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삼성 공정 풀로드맵보면 14nm -> 10nm -> 7nm -> 5nm 이렇게 잡혀있음
14.12.23 10:04

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그건 로직... | 14.12.23 10:15 | | |

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http://ruliweb.daum.net/news/530/view/MD20140127191106703.daum?page=126 10나노 이하도 이미 올초부터 연구중이라고 기사떳었고 아무리 안될것처럼 보여도 그걸 극복해 나가는게 인류의 기술진보의 역사였습니다.
14.12.23 10:42

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10나노 아래로 가야죠. 나중에 목걸이나 팔지 사이즈로 가상 현실 스마트 디바이스 만들려면... 어떻게 만들지는 기업이 고민해야되는 거고...ㅋㅋㅋ
14.12.23 10:50

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용량도 용량이지만 속도봐라 ㄷㄷ... 3200Mhz.....
14.12.23 12:42

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...
14.12.23 21:11

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이런거보면 삼성이 참 대단하다는 생각이 드는데....폰만 보면 하아....
14.12.26 17:54


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